PCB電鍍的優(yōu)勢主要體現(xiàn)在以下幾個方面:
優(yōu)良的導(dǎo)電性能:電鍍層可以顯著提高電路板的導(dǎo)電性能,降低電阻和信號傳輸損耗,提高電路板的傳輸效率。
良好的耐腐蝕性:電鍍層可以有效防止電路板表面被氧化或腐蝕,從而延長電路板的使用壽命。
良好的可焊性:電鍍層可以增強(qiáng)電路板的焊接性能,提高焊接點的質(zhì)量,降低焊接不良率。
美觀性:電鍍層可以使電路板表面更加光滑、亮麗,提高產(chǎn)品的整體外觀質(zhì)量。
在微電子技術(shù)日新月異的今天,印制電路板制造正朝著多層化、積層化、功能化和集成化的方向不斷演進(jìn),這無疑對制造技術(shù)提出了更為嚴(yán)苛的挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)的垂直電鍍工藝已難以滿足高質(zhì)量、高可靠性互連孔的技術(shù)需求,因此,水平電鍍技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。
垂直電鍍工藝的局限性:
究其原因,這主要與電鍍過程中的電流分布有關(guān)。在實際操作中,孔內(nèi)電流往往呈現(xiàn)腰鼓形分布,即從孔邊到孔中央逐漸減弱。這種分布特點導(dǎo)致大量銅沉積在表面與孔邊,而孔中央所需銅層厚度則難以達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。嚴(yán)重時,銅層過薄或無銅層,給多層板的生產(chǎn)帶來巨大損失。垂直電鍍工藝在電流分布上存在問題,影響銅層的均勻沉積,尤其在高縱橫比條件下。
電鍍原理與基本流程:
水平電鍍與垂直電鍍在方法和原理上雖有所差異,但核心要素相似。它們都依賴陰陽兩極的設(shè)定,通過通電引發(fā)電極反應(yīng),使得電解液中的主成分發(fā)生電離。正離子在電場作用下向電極反應(yīng)區(qū)的負(fù)極移動,而負(fù)離子則向正極移動,從而形成金屬沉積鍍層并釋放氣體。
在水平電鍍過程中,鍍液中的銅離子主要通過三種方式輸送到陰極附近:一是靠擴(kuò)散作用,二是靠離子遷移,三是靠主體鍍液的對流作用及離子遷移。這些過程共同構(gòu)成了水平電鍍的基本原理。水平電鍍通過電流反應(yīng)沉積金屬,借助于對流、離子遷移等手段實現(xiàn)鍍層均勻。
