由于銦靶材在半導體制造等領域有重要應用，一些半導體相關的企業(yè)和科研機構(gòu)可能會有收購銦靶材的需求。這些企業(yè)通常對銦靶材的質(zhì)量和規(guī)格有較高的要求，它們可能會通過專業(yè)的渠道或與行業(yè)內(nèi)的供應商建立合作關系來獲取銦靶材。
ITO靶材的基本介紹
主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）
應用領域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等
靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收流程
1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。
2. 表面處理/預處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細化學手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
ITO靶材回收市場需求持續(xù)增長，尤其在顯示面板和光伏行業(yè)。
銦價高企，促使更多企業(yè)關注廢靶材的回收利用。
隨著技術進步，回收工藝趨于環(huán)保
常見問題答疑：1. 廢靶材回收價格如何計算？
主要根據(jù)靶材剩余銦錫含量、市場行情、回收工藝等因素浮動。
2. 回收的銦錫純度能否滿足再次制靶需求？
取決于回收及精煉工藝，多數(shù)高品質(zhì)回收企業(yè)可將純度提升至制靶要求。
3. 回收周期多久？
一般為12周，具體視回收量和工藝流程而定。
