產(chǎn)品用途

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。

PECVD系統(tǒng)配置；

1.1200度開啟式滑動(dòng)單溫區(qū)真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

4.真空系統(tǒng)（單獨(dú)購(gòu)買）

產(chǎn)品特性;

電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區(qū)域長(zhǎng)；整管可調(diào)；精致小巧，性價(jià)比高，可實(shí)現(xiàn)快速升降溫，是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。

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系統(tǒng)名稱

集成型PECVD系統(tǒng)

1200℃小型PECVD系統(tǒng)

系統(tǒng)型號(hào)

PECVD-12IH-500A

PECVD-12IH-4Z/G

控制方式

液晶屏微PLC控制系統(tǒng)

手動(dòng)

溫度

1200℃

加熱區(qū)長(zhǎng)度

200mm

恒溫區(qū)長(zhǎng)度

100mm

溫區(qū)

單溫區(qū)

石英管管徑

Φ60mm

Φ50mm

額定功率

1.2Kw

2Kw

額定電壓

220V

滑動(dòng)方式及距離

自動(dòng)滑動(dòng);200mm

手動(dòng)滑動(dòng);200mm

溫度控制